据海外媒体报道，日本三洋电机株式会社和三洋水产科技株式会社日前联合研发了污水处理设备“泥浆旋流器”，用于低成本处理半导体工厂生产过程排放的污水。”“泥浆旋流器”主要用于处理化学机械研磨（CMP）工艺排放的污水。CMP工艺是指用砂布对硅片表面进行研磨。由于采用含钢砂的泥浆作为磨料，排出的污水中含有直径小于几十纳米的钢砂和硅片表面的碎屑。在过去，这类废水和其他半导体生产过程中产生的废水一样，采用混凝、沉淀和过滤的方法进行处理。但由于混凝剂用量大，过滤器也会形成网状堵塞，运行效率低，成本高。三洋电机等公司自主研发了采用浸没平板膜的超低压过滤技术。凝胶层是通过CMP排水在过滤器上产生的，它可以有效而正确地将其分离为水和颗粒。不仅大大降低了处理成本，而且可以回收可作为回收资源的颗粒物。未来，三洋电机等公司将与日本东北大学多材料科学研究所的中村重教授合作，共同开发回收固体颗粒的再利用和应用。（发自：中国机械网）